报告题目：利用光散射表征光学元件的特性 

　　报 告 人：Sven Schr?der博士 

　　报告时间：2014年10月13日(星期一) 9:00 

　　报告地点：澳门赌场长春光学精密机械与物理研究所 光学中心(四米楼)第一会议室310 

　　报告内容：由光学元件产生的散射光，通常情况下会增加光损失、损害成像性能，这些效应都是我们不想要的。散射光主要由元件的不完善引起的，如元件粗糙，折射率不均匀，或缺陷。通常，波长越短散射越强，散射光特性也对如DUV和EUV光刻应用中的高品质光学元件表面结构有重要影响。因此，测量和理解光学表面、薄膜涂层、材料的光散射性质是至关重要的。在耶拿的Fraunhofer组织IOF研发出了一组仪器，用于测量各种波长下的角度分辨的光散射。这组仪器拥有极高的灵敏度，能测到0.1nm的表面粗糙度水平，且动态范围高达15个数量级。该仪器及其应用将在两个报告中呈现。简短的介绍中将介绍光散射测量仪，以及该仪器应用的一些说明性的例子。较长的介绍中将主要介绍光散射测量仪的基础知识并详细地讨论一些应用案例。

　　专家介绍：

　　Sven Schr?der于2004年毕业于德国耶拿弗里德里希·席勒大学（FSU）物理学专业，于2008年获得FSU大学博士学位。自2001年他便加入了耶拿IOF的“表面和薄膜的表征小组”，其兴趣是针对表面和薄膜涂层的粗糙度和光散射的研究，开发新的测量和分析技术，并将这些程序标准化。2007年，他是图林根研究奖的共同得主，因其在EUV光刻中光学元件的开发做出的巨大贡献。